平成１５年１２月４日　（木）　　（１日目のプログラムへ）

10:00 　室温紫外発光酸化亜鉛の電気化学ヘテロエピタキシャル成長
　　　　　 （大阪市立工業研究所，宇都宮大学*)　○伊崎昌伸，高橋久弥*，渡瀬星児

10:15 　(111)Au/(100)Si基板上へのp型Cu2O膜の電気化学的へテロエピタキシャル成長
　　　　　　（同志社大学，大阪市立工業研究所*，宇都宮大学**)　○水野高太郎，伊崎昌伸*，高橋久弥**，稲葉稔，田坂明政　

10:30 　リンゴ酸浴からのCu2O膜の形成とヘテロ接合太陽電池への応用
　　　　　 （立命館大学)　○梅本拓史，片山順一，松岡政夫，玉置純　

10:45 　交互積層法を利用したCdSナノ粒子三次元構造体の作製
　　　　　　（甲南大学)　○鶴岡孝章，赤松謙祐，縄舟秀美　

11:00〜11:15　休憩

11:15 　樹脂の表面改質を利用するポリイミド樹脂上へのITO系薄膜の作製
　　　　　　（甲南大学)　○田口秀幸，赤松謙祐，縄舟秀美　

11:30 　反応性スパッタリングによる酸化チタン薄膜の低温形成と表面構造分析
　　　　　　 （（独）産業技術総合研究所，武漢大学*)　○浅沼達哉，松谷貴臣，劉昌*，三原敏行，木内正人　

11:45 　セリウム化成処理によるニッケルの高温耐酸化性の向上
　　　　　　（大阪市立工業研究所)　○小林靖之，藤原裕　

12:00 　DMAB還元によるセリウム酸化物薄膜の形成
　　　　　　（奥野製薬工(株)，大阪市立工業研究所*)　○片山順一，岩松克茂，大塚邦顕，伊崎昌伸*　

12：15〜13：30　休憩

13:30 　依頼講演　　「めっき技術のデジタル化戦略　〜インターネットを活用しためっき技術支援〜」
　　　　　産業技術総合研究所　ものづくり先端技術研究センター　廣瀬伸吾氏　

14:15 　グルコン酸塩浴からのNi-Mo合金めっきの作製
　　　　　（大阪府立産業技術総合研究所,（株）野村鍍金*)　○北村浩司，森河務，中出卓男，横井昌幸，石田幸平*

14:30 　Ni-Fe合金めっき皮膜の熱的挙動
　　　　　　（白光(株)，大阪府立産業技術総合研究所*)　○関守宣久，山下育郎，西村崇*，中出卓男*，森河務*　

14:45 　CuSn(スペキュラム）合金めっきの皮膜特性について
　　　　　　（京都市産業技術研究所，甲南大学*)　○中村俊博，水谷泰，永山富男，篠原長政，縄舟秀美*　

15:00 　XPSによる界面活性剤の吸着の評価
　　　　　　（上村工業（株）)　○土家和代，福井洋一，有田了，鈴木祥一郎　

15:15 　クロムめっきにおけるアノード特性
　　　　　　　（オテック（株），大阪府立産業技術総合研究所*)　○宮阪一郎，中出卓男*，森河務*　

15：30〜15：45　休憩

15:45 　イオン交換膜プロセスを用いる硫酸銅めっき
　　　　　（ダイソー（株），（有）ウイング*，大阪府立産業技術総合研究所**)　○三並淳一郎，湯屋進*，西村崇**，森河務**，横井昌幸**　

16:00 　Co(�U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっき浴の無隔膜電解再生
　　　　　　（甲南大学，(株)液晶先端技術開発センター*)　○森川裕司，赤松謙祐，縄舟秀美，中村弘喜*　

16:15 　Ti(III)/Ti(IV) 系レドックス対を用いるニッケルおよびその合金の無電解めっき
　　　　　　（京都大学)　○八木俊介，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘　

16:30 　アルミニウム合金上への無電解Ni-Pめっきの密着性に及ぼす前処理の影響
　　　　　　（岡山理科大学，岡山県工業技術センター*)　○宮川陽介，日野実*，村上浩二*，平松実*，金谷輝人　

16:45 　ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの物性制御
　　　　　 （姫路工業大学)　○横山敦之，濱田隆弘，伊藤潔，福室直樹，八重真治，松田均　

○は講演者を示す．